“如果摩尔的语言是准确的，ic必将愈来愈小型化，成本控制也相应会要求更高，对于光源的要求自然会越来越高，在这两方面，准分子激光器具有很大潜力。”

        集成电路（ic）要在单片晶圆（硅片）上构建众多的电子元件（主要是os管），而这些元件的各个部分，比如p结，n结，栅极，等等，需要通过光刻逐层构建。

        工厂依照确定的集成电路版图制造掩膜，然后使用光刻机将掩膜投影到已经涂了抗蚀剂的晶圆上，使得抗蚀剂曝光，之后对曝光过的抗蚀剂进行显像，对随后对晶圆进行化学蚀刻，然后用物理方法去除蚀刻部分，留下来的就形成所需的元件。

        整个过程就像照相，一个人通过光学镜头的处理，在底片上留下痕迹，通过化学药水分批清洗，就可以从底片上显露人的形象。

        所以光刻机是决定集成电路尺寸的主要因素，它能给你曝光到多少量级，集成电路就能够做到多少尺寸。

        光刻机的光源自然也是其最重要的核心部件。

        目前硅谷晶圆厂使用的大都是投影式光刻机，采用汞灯作为光源，汞灯的缺点是光谱线太高，成本也高，而且投影式方式下光刻机镜头无法移动，在同等光源下，能够曝光的集成电路容量有限。

        张恒为何要关注gca这家还不算太出名的小公司，因为这家公司在1978年研制出了史上第一台步进式光刻机，大大扩展了集成电路的容量。

        通俗点说，投影式一次只能拍一张照，可以移动的步进式一次至少可以拍两张照甚至还要更多，得到的影像当然要大得多。

        “既然gca暂时不同意入股，那价格上也就不需要太客气，你好好和他们砍吧。”张恒做了决定，gca他是志在必得，但是并不紧迫，随着晶圆厂的开工建设，相信会慢慢和对方建立起某种程度的信任，只要大恒未来数年内发展得好，不怕他们不上船。

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