之后就是光刻，光刻就是用一个类似底片一样的东西盖在涂了光刻胶的硅片上，然后进行光照，让光刻胶定型。

        定型后是用氢氟酸清洗，目的是洗掉无用的光刻胶，露出需要进行参杂扩散的区域。

        最后就是用一块磷或者其他参杂的元素材料。和硅片一起放进扩散炉，高温加热，慢慢冷却。

        扩散炉是一种专门设计的设备，可以进行扩散工艺。。这种设备很复杂，需要氧化，光蚀，真空扩散，然后用超声波压接电极，等很多的工序。

        其中的真空扩散是最主要的工序，将光蚀好的硅片放到石英管里面后，同时在边上摆放扩散材料，然后将石英管内抽成真空，密封，然后再放入电炉中加温。。反复几次用不同的扩散材料，就形成了多层的PN结构。

        目前的三极管仅仅需要三层PN结构，而二极管仅仅需要两层，而且硅片面积比较大，肉眼可见，加工起来算是比较简单。

        如果技术发展，三极管的体积越来越小，硅片的蚀刻和扩散越来越复杂，就连普通的光照都需要光刻机完成，因为需要非常好的光源，那就是另外一个尖端领域了。

        总之，别看实验室如今很多工序可以手工完成，但只有方浩知道，以后每一道工序都需要特定的尖端设备完成。

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