比如说申城微电早就已经启动了EUV光刻机的研制。

        研究EUV光刻机难度极其的大。

        之前的光刻机是用的光源是深紫外光，现在申城微电实现量产的130纳米光刻机依旧使用的深紫外光。

        可EUV光刻机得要用极紫外光。

        而极紫外光刻机早在八十年底的时候就被提出，1999年的时候ASML公司开始进行研发，计划在2004年的时候推出产品。

        只不过到2010年的时候才做出原型机，到了2016年的时候才实现向下游客户供货，比预期之中整整的晚了十二年时间。

        韩松林对光刻机了解不多，可也是知道EUV光刻机的，能够将芯片制程给做到7纳米，甚至5纳米，3纳米，就只有EUV光刻机能够做到。

        而Asml公司能够在未来独霸全球，占据全球光刻机市场百分之八十的市场，就因为人家在技术路线的选择上面走对了。

        韩松林知道，光刻机有两样东西很重要：光源和光学透镜。

        为此在星辰院专门的成立了光源研究所和光学研究所。

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