这次验收小组的组长、谢开云副所长目光灼灼地望向苏远山：“小苏，那就光刻机来说要看多远？”

        “虽然目前市场面主流的激光光源已经是i线uv（紫外激光），但根据我们所知，光源部分早就进入duv（深紫外）领域，就要突破248n的krf，甚至已经开始研究193n波长的arf了。”

        苏远山十指交叠，无声地笑了笑：“最起码，我们需要进入紫外光领域才行。”

        “i线的uv配合高精度的工作台，是可以在很长一段时间内满足存储器和低端芯片的需求的。而这些需求，也将会是长期的。”

        重生了这么久，苏远山当然能够更透特地了解到半导体行业为何会成为这样。

        曾经在十几年前，王守武在全国自然科学学科会议说过这样一段话：

        ——全国所有半导体生产工厂，其一年生产的集成电路总量，只等于霓国一个2000人企业一个月产量的十分之一。

        这种让人几近窒息的差距所带来的恐惧，导致了未来国内半导体的方针长期都以扩大产能为主。

        当然，自力更生的精神是刻在国人骨子里的。同期国内也没有放弃过自研……只是，举国之力搞出来的东西，实在没有办法推而广之。

        就譬如这台光刻机，都92年了，还依然只能在2微米上达到35左右的良率——这还是在进口了包括电机在内的大量零部件、再加上一半以上都是博硕士的五十人数控团队努力了大半年的结果。

        即便如此，它也依旧代表了国内目前最先进的水平，给个金奖一点也不为过。

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