并且就连远芯，制程推进也是在尼康i线365nm光刻机的基础上进行，虽然理论最小工艺节点依旧是0.25微米。但波长和线宽的优势，使得其更容易达到节点。

        此外，早在去年，intel就推出了基于0.35微米制程工艺的PentiumMMX，轻而易举地就回到了性能王座的同时，也彰显了其晶圆厂强大的制程工艺实力。

        根据小道消息，intel的0.25微米工艺也在突破当中。

        相比之下，德远这边，还在为0.35微米工艺打着攻坚战。

        与此同时，尼康那边已经采用248nm的KrF准分子激光作为下一代光刻机的光源，紧接着便是193nm的ArF——也就是大名鼎鼎的DUV。届时，凭借多重曝光技术，DUV将会把制程节点提高到65纳米的干式光刻极限。

        再往后……便是浸没式技术的天下了。

        如果说，还有什么能够让苏远山有信心和勇气去直面光刻机的未来，恐怕就是“多灾多难的”双工件台以及目前八字都没一撇的浸没式光刻技术了。

        沉默几秒后苏远山沉声道：“对于国家来说，光刻机就是好不容易养出来的金宝贝，不可能就此不管的，我们只需要做好我们应该做的即可。”

        说着他用力挥了一下手，仿佛想要挥去阴霾和迷雾。

        陈静见状毫不掩饰自己的心疼，轻声道：“要不自由讨论一下？”

        “没事，下一条。”苏远山抿了抿嘴，紧接着望向田耀明，末了又看了一眼末尾的李逸男一眼。

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