陈默语气转为铿锵：

        “OPC（光学临近校正）确实是N+1多重曝光下的噩梦。

        传统方法耗时数周，且精度难以保证。”

        他切换到一个极具视觉冲击力的界面：

        一边是传统OPC校正后依然存在毛刺和畸形的图形，另一边则是光滑完美、如同艺术品的修正结果。

        “钟耀祖团队，基于其强大的AI算法底蕴，开发了‘女娲’AI-OPC系统。

        基于自研异构计算架构和新算法，在处理N+1复杂度版图时，计算效率已达国际主流工具95%，且在特定图形补偿精度上有5-10%优势。

        自研工具与自研PDK的深度定制优势，是外购工具无法比拟的。

        另外它采用深度强化学习与生成对抗网络（GAN）结合的方式，不再是机械地遵循规则，而是‘理解’光刻机的成像物理过程，直接生成最优的校正图形。”

        陈默展示了一组震撼的数据：

        “在BalOng5000的某个关键层，采用‘女娲’系统，将OPC计算时间从传统的14天缩短到1时，同时校正精度提升40%，有效预测并规避了3处潜在的光刻热点。

  The content is not finished, continue reading on the next page