N+1的进展，现在到底是什么情况？”

        姚尘风的追问，让刚刚稍有缓和的气氛再次激起千层浪。

        所有人的心都提了起来，目光聚焦在那位工艺整合负责人身上。

        负责人的表情瞬间变得更加严峻，他甚至下意识地深吸了一口气，才操作电脑。

        投影画面切换到一个更加复杂、数据点更加稀疏且波动剧烈的图表：N+1工艺良率追踪图。

        那如同癫痫患者心跳般的曲线，让所有懂行的人心里都是一沉。

        “姚总、冯总，N+1工艺，我们面临的是一堵技术界的‘叹息之壁’。”他的声音干涩。

        “它的目标是实现比14nm更高的晶体管密度和能效比，这要求我们在晶体管架构、新材料、新集成技术上都取得突破。

        目前，我们在三个核心领域遇到了巨大的、近乎原理性的困难。”

        他逐一指出图表上的几个致命低谷：

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