它们的沉积速率，都是和微波功率有关的。

        举个例子，用5kW微波功率的MPCVD法，可以以10μmh的速率沉积工具级金刚石薄膜，以8μmh的速率沉积热沉级金刚石薄膜，以3μmh的速率沉积光学级金刚石薄膜。

        而用10kW微波功率的时候，他的沉积速率可以达到25μmh。

        也就是，通过增大微波功率，可以提高金刚石薄膜的沉积速率。

        除此之外，金刚石薄膜的沉积速率还和气体压力有关。

        在高微波功率，高的甲烷与氢气体积流量比，160Torr气体压力下，可以制备出150μmh的多晶金刚石薄膜。

        如果在同等条件下，将压力提高至310Torr下，可以制备出165μmh的单晶金刚石薄膜。

        “气体压力……”

        “微博功率……”

        陈舟在草稿纸上写下这两个词汇。

        拿笔点了两下，随手便划了两个圈。

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