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第311章 第一片亮起的硅 (4 / 18)

        吸盘旋转起来,越来越快。光刻胶从滴管落下,在离心力作用下迅速摊开,形成一层薄薄的膜。转速、温度、时间……所有参数,小周已经烂熟于心。

        涂胶完成。薄膜均匀,没有气泡,没有条纹。

        “漂亮!”陈启明凑到显微镜前看了一眼,忍不住赞叹。

        小周这才发现自己后背全湿透了,腿一软,差点坐地上。旁边的老师傅赶紧扶住他,拍拍他的肩:“小子,行啊!”

        这只是第一步。

        涂胶、前烘、对准、曝光、显影、后烘……光刻这一道工序,就有七个关键步骤。每个步骤都可能失败,而一旦失败,这片晶圆就废了,三个月的等待,无数人的心血,都废了。

        陈启明亲自操作光刻机。

        这台六十年代的东德老设备,经过张卫东团队的改造,加装了简易的数控系统。但核心的光学系统还是原来的,分辨率有限,对准精度也有限。

        “掩膜版对准。”陈启明眼睛贴在显微镜上,手轻轻转动微调旋钮。

        掩膜版上,是“长城1号”的全部电路图案。那是几十个工程师,用放大镜和刻刀,在玻璃板上一点一点刻出来的。最细的线条只有十微米,差不多是头发丝直径的七分之一。

        “对准完成。”陈启明直起身,揉了揉发酸的眼睛,“曝光参数?”

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